提拉鍍膜法是種廣泛應用于科研方面薄膜制備的方法。這樣可以在硅片或者圓柱形基片上鍍上均勻的薄膜。而在業商，更多的則使用旋涂鍍膜法。

提拉機是門用于薄膜制備可行性研究的鍍膜具，它采用了浸泡提拉的鍍膜。

過程

提拉鍍膜法就是把需要鍍膜的基片浸入溶液中，通過預設置的速度，在定的溫度和空氣環境下將基片慢慢提拉出來。

提拉過程可以分為5個步驟:

1 浸入溶液:將基片以預設定的速度(無何抖動)侵入鍍膜溶液中

2 浸泡:讓基片在溶液中浸泡定的時間，然后準備提拉

3 沉積:在提拉的過程中，薄膜會沉積在基片上。提拉的速度穩定，避免何抖動。提拉速度是膜層厚度個重要的決定因素。(提拉速度越快，膜層厚度越厚)

4 溢:多余的溶液會在提拉的過程中從基片表面上掉

5 揮發:溶劑從溶液中揮發掉，在基片表面上形成薄膜。易揮發的溶劑如酒。揮發過程在沉積和溢的過程中會同時行。

因素

1 提拉速度(提拉的速度非常穩定，避免抖動)

2 固體含量

3 液體粘度決定